こちらは、 過去にマイナビスカウティングに掲載されていた、募集が終了している求人情報です。

【北海道】FEOL要素プロセスエンジニア / 社名非公開 / 半導体・電子・電気機器メーカー

社名非公開

掲載期間: 2026.03.12 ~ 2026.03.25

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600万円~1000万円

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北海道

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生産技術・製造技術

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半導体・電子・電気機器メーカー

正社員 業種未経験歓迎 完全週休二日制 年間休日120日以上 フレックス勤務

募集要項

ポイント 【パソナキャリア経由での入社実績あり】パソナキャリアがおすすめする求人案件です。こちらの求人以外にも非公開求人も多数保有しておりますので、転職をお考えの方は、是非エントリーください。
仕事内容 ・シリコンウェハー洗浄、CMP、イオン注入、熱処理、成膜のいずれかの工程に関する技術開発・改善
・装置・材料メーカーや社内部門(デバイス、プロセスインテグレーション、TEGレイアウト設計、生産技術)と連携し、効果的な技術開発をリード
・新規プロセスの評価、歩留まり改善、量産移行に向けた課題解決

【配属部署】
技術開発統括部

【魅力】
■国内最大級の開発に携わり、日本を背負う産業に関わるチャンスです。
■ゆくゆく上場を目指しているため大型上場に関わることもできる予定です。

【定年】65 歳 
※65 歳以降有期契約による継続雇用有

【Rapidus社とは】
元東京エレクトロン会長の東様が発起人となり、キオクシア、ソニー、ソフトバンク、デンソー、トヨタ自動車、NEC、NTT、三菱UFJ銀行が出資し、海外では2nm技術を有する米IBMおよびEUV露光装置技術を持つベルギーimecとの協力体制構築、国内では技術研究組合最先端半導体技術センター(LSTC)との連携によりサムスン社やTSMC社でも成しえていないbeyond 2nmを掛け声に同社は設立されました。
この度2027年に次世代半導体生産を目指し、キャリア採用を加速させております。
求める人材 【必須要件】
・以下いずれかの工程に関するプロセス開発経験
 - シリコンウェハー洗浄工程
 - CMP工程
 - イオン注入工程
 - 熱処理工程
 - 成膜工程
・TOEICで600点以上もしくは同等程度の英語力
・JLPTでN3、もしくは同等程度の日本語力
勤務地 北海道
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します

給与・待遇

給与 年収 600 ~ 1000 万円
経験・スキルに応じて変動の可能性があります
雇用・契約形態 正社員

勤務時間・休日

勤務時間 08:30~17:00
休日・休暇 完全週休二日(土日)創立記念日(8月10日)、年次有給休暇(初年度6日~10日、勤続年数に応じて最大20日)

その他

募集背景 新規募集の為
増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。
コンサルタントからのコメント パソナキャリアがおすすめする求人です。詳細は面談時にお話しさせていただければと思いますので、まずはお気軽にエントリーください。
掲載期間 2026.03.12 ~ 2026.03.25
更新日 2026/03/12(木)

企業情報

企業名 社名非公開
設立 2022年
従業員数 597
資本金 3,680百万円
売上高 非公開
事業内容 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。

求人の取り扱いコンサルタント

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坪松 政和

面接トレーニングに自信、 レジュメ指導に自信

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