職種
医薬・食品・化学・素材 > 化学・素材・バイオ > 基礎・応用研究・技術開発
勤務地
関東 > 神奈川県
業種
機械・電気・電子メーカー > 半導体・電子・電気機器メーカー
特徴
こちらは、 過去にマイナビスカウティングに掲載されていた、募集が終了している求人情報です。
| 企業名 | 社名非公開 |
| 年収 | 700万円～1300万円 |
| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します |
| 職種 | 基礎・応用研究・技術開発 |
| 業種 | 半導体・電子・電気機器メーカー |
| ポイント | 【パソナキャリア経由での入社実績あり】パソナキャリアがおすすめする求人案件です。こちらの求人以外にも非公開求人も多数保有しておりますので、転職をお考えの方は、是非エントリーください。 |
| 仕事内容 |
【職務内容】
フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価 ※下記キーワードに関連するご経験をお持ちの方は積極的にご応募ください！ ＜キーワード＞ 半導体、微細加工、リソグラフィ、フォトレジスト、ArF、KrF、EUV、EB、感光性、光反応、フォーミュレーション |
| 求める人材 |
【必須要件】※下記いずれかのご経験をお持ちの方※
■フォトレジストの研究開発の経験があり、先端半導体リソグラフィに精通していること ・フォトレジストの研究開発（ArF, EUV向け） ・フォトレジストの処方（フォーミレーション）、物性評価（特にプロセス適性）、ポリマー/感光剤（PAG）等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーション ※フォトレジストの開発経験がなくても、下記の経験があればOKです ■フォトレジスト周辺素材：BARC（反射防止膜、アンダーレイヤー）、SOH（スピンオンハードマスク）等の処方/物性評価 |
| 給与 |
年収 700 ～ 1300 万円
経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します |
| 勤務時間 | 08:30～17:00 |
| 休日・休暇 |
完全週休二日（土日）夏季休暇、年末年始休暇、慶弔休暇
有給休暇10~20日 |
| 募集背景 |
新規募集の為
増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
| コンサルタントからのコメント | パソナキャリアがおすすめする求人です。詳細は面談時にお話しさせていただければと思いますので、まずはお気軽にエントリーください。 |
| 掲載期間 | 2024/03/15（金） ～ 2024/03/28（木） |
| 更新日 | 2024/03/15（金） |
| 設立 | 1975年 |
| 従業員数 | 181 |
| 資本金 | 8,330百万円 |
| 売上高 | 非公開 |
| 事業内容 | 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。 |
求人の取り扱いコンサルタント
片田 裕二
面接トレーニングに自信、 レジュメ指導に自信、 キャリアプランニングに自信、 条件交渉に自信
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